昆明学院关于申报2021年度云南省科学技术奖励提名的公示——电子级多晶硅化学气相沉积机理及提质降耗研究
作者：科技处 时间：2021-05-14 点击数：
1. 项目名称：电子级多晶硅化学气相沉积机理及提质降耗研究
2. 提名者：昆明理工大学
提名等级：2021年度云南省自然科学二等奖
3. 提名意见：项目围绕“电子级多晶硅化学气相沉积机理及提质降耗研究”开展了系统和创新性的基础理论研究，形成了以“传递动力学机理-电流加热电磁理论-能量耗散机理”为核心的电子级多晶硅提质降耗的基础理论，丰富和发展了电子级多晶硅制备理论体系。以此理论为依据，解决了西门子法制备多晶硅能耗高、产品质量低的系列技术难题，推动了电子级多晶硅产业技术的改进与创新，为电子信息和智能控制行业的快速可持续发展贡献了智慧和力量。
4. 项目简介：电子级多晶硅作为电子信息技术行业的主要基础材料，市场需求量巨大。然而却很大程度上依赖于进口，自给率严重不足，造成国民经济相关产业领域在国际贸易的被动局面，对国民经济建设和国家战略安全带来严重威胁。西门子法是制备电子级多晶硅的主要工艺技术，降低能耗和提高产品质量的关键科学问题在于多晶硅还原过程提质降耗理论的建立，需解决西门子还原炉内多晶硅及杂质的化学气相沉积机理及传递-动力学、硅棒电流加热电磁理论、能量耗散机理等关键科学问题，因此开展西门子法制备电子级多晶硅化学气相沉积机理及提质降耗理论研究是相关行业的技术需求，具有重大的现实意义。近十余年来，课题组在多项国家及省部级自然科学基金的支持下，围绕“电子级多晶硅化学气相沉积机理及提质降耗研究”开展了系统和创新性的基础理论研究，形成了以“传递动力学机理-电流加热电磁理论-能量耗散机理”为核心的电子级多晶硅提质降耗理论，推动了电子级多晶硅产业技术的改进与创新。
5. 代表性论文（8篇）
序号 |
论文专著名称 |
刊名 |
作者 |
年卷页码（xx年xx卷 xx页） |
发表时间（年月日） |
通讯作者（含共同） |
第一作者（含共同） |
国内作者 |
他引总次数 |
论文署名单位是否包含国外单位 |
1 |
Optimization of effective parameters on Siemens reactor to achieve potential maximum deposition radius: An energy consumption analysis and numerical simulation |
International Journal of Heat and Mass Transfer (IF=4.662, JCRQ1) |
聂陟枫 Palghat A. Ramachandran 侯彦青 |
2018年117卷1083-1098页 |
2018年2月 |
侯彦青 |
聂陟枫 |
聂陟枫 侯彦青 |
12 |
是 |
2 |
Prediction of thermal and electrical behavior of silicon rod for a 48-rod Siemens reactor by direct current power |
International Communications in Heat and Mass Transfer(IF=4.73,JCRQ1) |
聂陟枫 邓久帅 周扬民 文书明 侯彦青 |
2017年88卷148-159页 |
2017年11月 |
侯彦青 |
聂陟枫 |
聂陟枫 邓久帅 周扬民 文书明 侯彦青 |
6 |
否 |
3 |
The combined effect of heat transfer and skin effect on Joule heating for silicon rod in Siemens reactor |
Applied Thermal Engineering(IF=4.514,JCRQ1) |
聂陟枫 侯彦青 邓久帅 Palghat A. Ramachandran 文书明马文会 |
2017年125卷856-869页 |
2017年10月 |
侯彦青 |
聂陟枫 |
聂陟枫 侯彦青 邓久帅 文书明 马文会 |
11 |
是 |
4 |
Thermal and electrical behavior of silicon rod with varying radius in a 24-rod Siemens reactor considering skin effect and wall emissivity |
International Journal of Heat and Mass Transfer (IF=4.662, JCRQ1) |
聂陟枫 周扬民 邓久帅 文书明 侯彦青 |
2017年111卷1142-1156页 |
2017年8月 |
侯彦青 |
聂陟枫 |
聂陟枫 周扬民 邓久帅 文书明 侯彦青 |
6 |
否 |
5 |
Electric heating of the silicon rods in Siemens reactor, International Journal of Heat and Mass Transfer |
Journal of Heat and Mass Transfer (IF=4.662, JCRQ1) |
聂陟枫 侯彦青 谢刚 崔焱 俞小花 |
2015年90卷1026-1033页 |
2015年11月 |
侯彦青 |
聂陟枫 |
聂陟枫 侯彦青 谢刚 崔焱 俞小花 |
16 |
否 |
6 |
Thermodynamic behaviors of SiCl2 in silicon deposition by gas phase zinc reduction of silicon tetrachloride |
Chinese Journal of Chemical Engineering (IF=2.24, JCRQ2) |
侯彦青 聂陟枫 谢刚 李荣兴 俞小花 Palghat A. Ramachandran |
2015年23卷552-558页 |
2015年3月 |
侯彦青 |
侯彦青 |
侯彦青 聂陟枫 谢刚 李荣兴 俞小花 |
8 |
是 |
7 |
A CFD model for gas uniform distribution in turbulent flow for the production of titanium pigment in chloride process |
Chinese Journal of Chemical Engineering (IF=2.24, JCRQ2) |
李亚东 谢刚 雷霆 包崇军 田林 侯彦青 |
2016年249卷 749-756页 |
2016年6月 |
侯彦青 |
李亚东 |
李亚东 谢刚 雷霆 包崇军 田林 侯彦青 |
3 |
否 |
8 |
SiCl4氢化转化为SiHCl3过程的热力学 |
中国有色金属学报 |
侯彦青 谢刚 陶东平 俞小花 李荣兴 宋东明 |
2011年21卷3202-3210页 |
2011年12月 |
谢刚 |
侯彦青 |
侯彦青 谢刚 陶东平 俞小花 李荣兴 宋东明 |
22 |
否 |
合计 |
84 |
|
6. 主要完成人基本情况
序号 |
姓名 |
技术职称 |
职务 |
工作单位 |
完成单位 |
1 |
侯彦青 |
教授 |
无 |
昆明理工大学 |
昆明理工大学 |
2 |
聂陟枫 |
副研究员 |
无 |
昆明学院 |
昆明理工大学 |
3 |
谢刚 |
教授 |
首席研究员 |
昆明冶金研究院有限公司 |
昆明冶金研究院有限公司 |
4 |
俞小花 |
副教授 |
副系主任 |
昆明理工大学 |
昆明理工大学 |
5 |
田林 |
教授级高级工程师 |
所长 |
昆明冶金研究院有限公司 |
昆明冶金研究院有限公司 |
7、公示时间：2021年5月15日至5月21日。
如对公示内容有异议，请在公示期间以书面形式，实名向科技处反映。
联系电话：0871—65098047
联系人：黄老师
科技处
2021年5月14日
